Este artículo presenta los resultados de una investigación relacionada con el nuevo cubrimiento cerámico Nitruro de Titanio Aluminio Vanadio (TiAIV) N. La deposición del (TiAIV)N se realizó bajo los parámetros de la Deposición física de vapores asistida por plasma (PAPVD) por la técnica de Arco Pulsado sobre un sustrato de acero H.13, en probetas de 19 mm de diámetro con 2,2 mm de espesor. Se efectuaron las caracterizaciones tanto del sustrato como del (TiAIV) N en el Sistema de Microscopia Atómica (AFM), Microscopia Atómica de Barrido (SEM) y Difracción y rayos X (XRD).Se analizaron rugosidades, tamaño de grano promedio, niveles de porosidad y estequiometria final (Wt% y At%)., además de un ensayo de nanodureza antes y después del recubrimiento final. Durante la deposición por arco, se aplicó el método Glow, obteniéndose un mejor control en la estructura y adherencia final.
